• Ртутная печь для отжига
    Это оборудование для ионно-лучевого осаждения представляет собой высокоточную-систему для осаждения тонких пленок, предназначенную для изготовления тонких пленок из металлической проволоки и омических контактов при производстве...
    Смотреть больше
  • Печь для высокотемпературного отжига SiC
    Печь для высокотемпературного отжига SiC — это специализированное оборудование для термической обработки, предназначенное для производства силовых устройств из карбида кремния (SiC). В основном он используется для проведения...
    Смотреть больше
  • Печь для высокотемпературного окисления SiC
    Эта печь для высокотемпературного-окисления карбида кремния представляет собой специализированное устройство термической обработки, предназначенное для производства полупроводников из карбида кремния. В основном он используется для...
    Смотреть больше
  • Печь для эпитаксии карбида кремния
    Наша печь для эпитаксии SiC — это специализированное оборудование, предназначенное для гомоэпитаксиального выращивания 4H-SiC, основного материала полупроводников третьего-поколения.
    Смотреть больше
  • Вертикальная печь для термической обработки
    Наше оборудование для-химического осаждения металлов из паровой фазы (MOCVD) — это основной производственный инструмент, предназначенный для осаждения высококачественных-эпитаксиальных материалов. Он профессионально разработан для...
    Смотреть больше
  • Вертикальная печь для окисления и отжига
    Наша вертикальная печь для окисления и отжига предназначена для надежной термической обработки при производстве полупроводников. Он занимается окислением, отжигом и легированием пластин, используемых в интегральных схемах, силовых...
    Смотреть больше
  • Полу-автоматическое оборудование RTP
    Это полу-автоматическое оборудование RTP весьма практично и способно обрабатывать пластины диаметром от 8 до 12 дюймов. Полу-оборудование RTP обеспечивает точный контроль температуры и очень низкое содержание кислорода, что делает его...
    Смотреть больше
  • Оборудование для окисления и диффузии RTP
    Оборудование RTP для окисления и диффузии представляет собой основной термический инструмент для полупроводников, объединяющий возможности окисления, диффузии и отжига в одном устройстве. Он разработан специально для обработки...
    Смотреть больше
  • Оборудование для высокотемпературного{{0}окисления RTP
    Оборудование RTP для высокотемпературного-оксидирования нашей компании является основным термическим оборудованием в крупномасштабном-производстве полупроводников. Он специально разработан для создания чистых, плотных пленок SiO₂ на...
    Смотреть больше
  • Низко-оборудование RTP для низких температур
    Низкотемпературное-оборудование RTP: оно обеспечивает исключительно точный контроль температуры от 250 до 500 градусов, эффективно обеспечивая термообработку таких материалов, как ниобат лития и кремний.
    Смотреть больше
  • Автоматическое оборудование RTP
    Автоматическое оборудование RTP, совместимое с 8-12-дюймовыми пластинами, имеющее конструкцию с одной или двумя полостями и специально разработанное для массового производства. Интегрируя роботов и другие компоненты, он обеспечивает...
    Смотреть больше
  • Настольное RTP-оборудование
    Настольное оборудование RTP. Это оборудование адаптируется к пластинам небольшого-размера, отличается компактной конструкцией и гибким размещением. Контроль температуры охватывает комнатную температуру до 800 градусов (термопара) и от...
    Смотреть больше

Как один из самых профессиональных производителей и поставщиков оборудования для термической обработки в Китае, мы отличаемся качеством продукции и хорошими ценами. Будьте уверены, что купите индивидуальное оборудование для термической обработки на нашем заводе. Для получения предложения и прайс-листа свяжитесь с нами сейчас.

Отправить запрос